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리소그래피 및 기타 응용에서 극자외 방사선과 함께 사용하기 위한 재료, 부품 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	자이스왈, 수프리야
출원번호	10-2020-7006623
출원일자	2020-03-05
공개번호	20200513
공개일자	2023-02-13
등록번호	10-2499455-0000
등록일자	2023-02-09
권리구분	KPTN
초록	자외(UV) 파장, 극자외(EUV) 파장 및/또는 연 X-선 파장에서 작동되는 디바이스 및 시스템에서 사용되는 재료의 새로운 부류 및 연관된 부품이 설명된다. 본 발명은 EUV 반사성 및 투과성 재료의 대역폭 및 종합 성능을 증가시키는 것에 관한 것이다. 이러한 재료 구조체 및 조합은 응용, 예컨대, 리소그래피, 웨이퍼 패터닝, 천문학 응용 및 우주 응용, 생의학 응용 또는 기타 응용에서 사용되는, 부품, 예컨대, 거울, 렌즈 또는 다른 광학기기, 패널, 광원, 포토마스크, 포토레지스트 또는 다른 부품을 제조하도록 사용될 수도 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020207006623
첨부파일

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