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플라즈마 처리 장치

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기관명	NDSL
출원인	도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호	10-2013-0006094
출원일자	2013-01-18
공개번호	20130802
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	상하 방향으로 이동 가능하게 구성된 상부 전극 근방의 고주파 전송로 상에서 파티클의 발생을 유발하지 않고 원하지 않는 공진 현상의 발생을 효과적으로 방지한다. 이 캐소드 커플링 방식의 용량 결합형 플라즈마 처리 장치에서, 챔버(10)의 상부에는, 상하 방향으로 가동하게 구성된 상부 전극(44)이 서셉터(하부 전극)(14)와 평행하게 마주하여 동축에 설치된다. 이 상부 전극(44)은, 서셉터(14)와 대향하는 전극 본체(46)와, 챔버(10)의 천장벽(윗덮개)(10b)과 대향하는 도전성의 배판(48)과, 전극 본체(46)와 배판(48) 사이에 공극(50)이 형성되도록 전극 본체(46)의 주변부와 배판(48)의 주변부를 결합하는 링 형상의 유전체(52)를 가지고 있다. 상부 전극(44)의 배판(48)은, 물리적으로도 전기적으로 벨로우즈(72)를 개재하여 접지 전위 부재인 챔버(10)에 접속되어 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130006094
첨부파일

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