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유전체 디바이스의 제조 방법 및 애싱 방법

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기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 아루박
출원번호	10-2013-7015126
출원일자	2013-06-12
공개번호	20130726
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	[과제] 레지스트 잔사를 억제할 수 있는 유전체 디바이스의 제조 방법 및 애싱 방법을 제공한다.[해결 수단] 상기 애싱 방법은 유기 재료로 형성된 레지스트 마스크(6)를 통해 염소계 가스 또는 불화 탄소계 가스의 플라즈마로 표면을 에칭한 기재를 챔버 내에 배치하고, 상기 챔버 내에서 산소이온에 의해서 상기 레지스트 마스크(6)를 충격 처리하고, 상기 챔버 내에서 산소 라디칼에 의해서 상기 레지스트 마스크를 제거한다.상기 애싱 방법에 의하면, 산소이온에 의한 충격 처리에 의해서 레지스트 마스크의 표면에 부착한 에칭 반응물이 물리적으로 제거된다.이것에 의해, 에칭 반응물에 기인하는 레지스트 잔사의 발생이 억제되어 기재 표면으로부터 레지스트 마스크가 효율적으로 제거된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020137015126
첨부파일

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