| 초록 |
원자력 현미경 시스템을 사용하여 다층 반도체 디바이스의 디바이스 층 간의 오버레이 오차를 결정하는 방법으로서, 상기 반도체 디바이스는 제 1 패터닝된 층 및 제 2 패터닝된 층을 포함하는 디바이스 층의 스택을 포함하고, 상기 원자력 현미경 시스템은 스캔 헤드를 포함하고, 상기 스캔 헤드는 프로브를 포함하며, 상기 프로브는 캔틸레버 및 상기 캔틸레버 상에 배열된 프로브 팁을 포함하며, 상기 방법은: 상기 프로브 팁으로 표면을 스캐닝하기 위해 상기 프로브 팁 및 상기 반도체 디바이스를 상기 표면에 대해 평행한 하나 이상의 방향으로 서로에 대해 이동시키는 것과; 상기 스캐닝 동안 팁 포지션 검출기로 상기 스캔 헤드에 대한 상기 프로브 팁의 움직임을 모니터링하여 출력 신호를 획득하는 것을 포함하고; 상기 방법은 상기 스캐닝 동안, 상기 프로브 또는 상기 반도체 디바이스 중 적어도 하나에 제 1 주파수의 신호 성분을 포함하는 제 1 음향 입력 신호를 인가하는 것과; 상기 출력 신호를 분석하여, 상기 반도체 디바이스의 표면 아래의 적어도 표면 하부 나노구조물을 매핑하는 것과; 상기 분석에 기초하여 상기 제 1 패터닝된 층과 상기 제 2 패터닝된 층 간의 오버레이 오차를 결정하는 것을 더 포함한다. |
