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특허/실용신안

플라즈마 화학기상 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 (주)에스엔텍
출원번호 10-2013-0075404
출원일자 2013-06-28
공개번호 20150109
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 일영역에 기재가 위치하는 진공챔버와, 상기 진공챔버 내에 배치되는 적어도 하나의 원통형 전극과, 상기 원통형 전극 내에 마련되어 상기 원통형 전극 외측으로 자기장을 형성하는 적어도 하나의 자기장발생유닛을 구비한 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 상기 자기장발생유닛은 상기 원통형 전극의 반경 방향을 향해 상기 원통형 전극의 내주면에 대해 접근하는 위치와 이격되는 위치로 왕복 이동 가능하게 설치되는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 자기장의 크기나 강도 등을 다양한 형태 조절할 수 있도록 하여 생산 효율을 향상시킬 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020130075404
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C23C-016/50,C23C-016/513,H01L-021/205
주제어 (키워드)