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플라즈마 화학기상 장치

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기관명	NDSL
출원인	(주)에스엔텍
출원번호	10-2013-0075400
출원일자	2013-06-28
공개번호	20140620
공개일자	2016-05-12
등록번호	10-1619152-0000
등록일자	2016-05-02
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 진공챔버; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 공정 가스를 공급하는 가스공급부; 상기 진공챔버 내부에 상호 인접하게 배치되어 회전하며, 상호 인접하는 외주면에 기재가 감아 도는 적어도 3개의 성막롤; 상기 기재를 이송시키는 기재이송부; 상기 성막롤들 중 적어도 어느 하나의 성막롤 내부에 마련되어 상기 성막롤들의 인접 영역에 플라즈마 형성을 위한 자기장을 발생시키는 자기장발생부재; 상기 성막롤에 전원을 공급하는 전원공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 성막 속도를 증가시킴과 동시에, 장치의 크기 및 제작비용 증가를 최소화할 수 있는 플라즈마 화학기상 장치가 제공된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020130075400
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