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변조 디바이스 및 이를 사용하는 하전 입자 멀티-빔렛 리소그래피 시스템

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기관명	NDSL
출원인	마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
출원번호	10-2013-7013374
출원일자	2013-05-24
공개번호	20130830
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	발명은 하전-입자 멀티-빔렛 리소그래피 시스템에 관한 것이다.시스템은, 다수의 빔렛들을 발생시키기 위한 빔 발생기, 다수의 빔렛들을 패터닝하기 위한 빔렛 블랭커 어레이, 광섬유 어레인지먼트, 및 프로젝션 시스템을 포함한다.빔렛 블랭커 어레이는, 하나 또는 그 초과의 변조기들을 포함하는 제1 영역 및 변조기들이 없는 제2 영역이 제공된 기판을 포함한다.빔렛 블랭커 어레이는, 하나 또는 그 초과의 변조기들에 전기적으로 연결되고 패턴 데이터를 운반하는 광 빔들을 수용하도록 배열되는 하나 또는 그 초과의 감광성 엘리먼트들을 포함한다.광섬유 어레인지먼트는 하나 또는 그 초과의 감광성 엘리먼트들을 향하여 패턴 데이터를 운반하는 광 빔들을 가이딩하기 위한 다수의 광섬유들을 포함한다.표면에 직각인 방향으로 빔렛 블랭커 어레이의 표면 위로의 광섬유 어레인지먼트의 프로젝션은 완전히 제2 영역 내에 들어간다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020137013374
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