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통합형 기판 세정 시스템 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	레이브 엔.피., 인크.
출원번호	10-2013-7013252
출원일자	2013-05-24
공개번호	20131206
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 자체 상에 배치된 유기 및 무기 잔여물을 갖는 기판을 세정하기 위한 방법을 제공한다.이 방법은 대기 산소 플라즈마를 사용하여 상기 기판으로부터 유기 잔여물을 제거하는 단계 및 극저온 CO 2 를 사용하여 상기 기판으로부터 무기 잔여물을 제거하는 단계를 포함한다.상기 기판은 양성의 냉각제를 사용하여 사전처리되고 희석 습식 화학적 세정 방법을 사용하여 후처리될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020137013252
첨부파일

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