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장비 및 시설 기본정보

스퍼터2

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 한국진공
모델명 개발장비
장비사양
취득일자 2006-04-01
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 연세대학교 비아이티 마이크로 팹 센터
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C506
표준분류명 생산·공정장비,기타장비
시설장비 설명 D.C/R.F Magnetron Sputter
사용목적: 금속 박막 증착 가능함.
사용기판: 조각~4인치 웨이퍼, 6인치 웨이퍼는 개별문의 필요함.
증착물질: Pt, Au, Ni, Ta, Cr등 (Pt, Au 등 고가타겟은 재료비별도, 개별문의바람), 타겟(3인치) 구매시 증착 물질 변경 가능함.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/KRD4MwceJSLGeqvSdJQr_w600.jpg
장비위치주소 서울 서대문구 연세로 50 첨단과학기술연구관 B206호
NFEC 등록번호 NFEC-2015-02-197628
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-YS_BIT-00014
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)