스퍼터2
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 한국진공 |
모델명 | 개발장비 |
장비사양 | |
취득일자 | 2006-04-01 |
취득금액 |
보유기관명 | 연세대학교 비아이티 마이크로 팹 센터 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C506 |
표준분류명 | 생산·공정장비,기타장비 |
시설장비 설명 | D.C/R.F Magnetron Sputter 사용목적: 금속 박막 증착 가능함. 사용기판: 조각~4인치 웨이퍼, 6인치 웨이퍼는 개별문의 필요함. 증착물질: Pt, Au, Ni, Ta, Cr등 (Pt, Au 등 고가타겟은 재료비별도, 개별문의바람), 타겟(3인치) 구매시 증착 물질 변경 가능함. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/KRD4MwceJSLGeqvSdJQr_w600.jpg |
장비위치주소 | 서울 서대문구 연세로 50 첨단과학기술연구관 B206호 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2015-02-197628 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-YS_BIT-00014 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |