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장비 및 시설 기본정보
급속 열처리 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에코피아 |
| 모델명 | High Temp High Vacuum Annealing system Using Elect |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-09-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | -고속으로 열처리를 하는 장비로 반도체 및 나노 기술에 활용 -12개의 할로겐 램프를 열원으로 사용하며 radiation transfer를 이용해 wafer의 온도를 올려 temperature uniformity를 조절하여 반도체 소자의 물성을 향상시키는 장비 |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202212/20221227102419866.jpg |
| 장비위치주소 | 자연과학동(E6-2) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2022-12-283876 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/cloud/resvEq/read/Z-202305267878?cloudId=202305233883 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |