| 시설장비 설명 |
전자현미경은 광학현미경에서 사용하는 가시광선 대신 전자선을, 또한 유리렌즈대신 전자렌즈를 사용하여 물체의 확대상을 만드는 장비로 전자총의 분류에 따라 나누면 열전자 방사형 타입과 전계방사형 타입의 두 종류로 나눌 수 있음.
열전자 방사형 타입 (Thermionic emission type) : 필라멘트(Filament), 워넬트(Wehnelt), 양극(Anode)으로 구성되며, 먼저 열전자가 필라멘트에서 방출되고, 필라멘트와 양극사이에 가속전압을 가함으로써 열전자에 에너지를 주어 전자빔을 생성함. 이 과정동안에 열전자들은 필라멘트와 웨넬트 사이에 가해진 바이어스 전압에 의해 Cross over point에 집속됨,전계 전자 방사형 타입 (Field emission type) : 전계 방사형 전자총의 전계 방출 전자원은 금속표면에 강력한 전기장이 형성되었을 때 방사되어 나오는 전자선을 이용하며, 음극에 날카롭게 가공된 Tip에 고압의 전기장을 가하면 표면에서 전자가 방출되는데 열전자 방출형 전자총에 비해 100 ~ 1000배 정도의 높은 휘도를 얻을수 있음, 본장비는 진공의 환경에서 FEG source에서 발생된 이차전자를 샘플에 주사하여 샘플에서 발생하는 이차전자(SE) 및 후방산란전자(BSE)를 활용하여 Sub-Micro & Sub-Nano의 미세 영역을 관찰하는 기본 원리를 활용하여 고배율의 미세 구조의 표면 관찰이 가능함. |
