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장비 및 시설 기본정보
Reactive Ion Etching System
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Integrated Plasma Ltd |
| 모델명 | IPL 2000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1992-01-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국표준과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | F0 |
| 표준분류명 | 계측 |
| 시설장비 설명 | |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200702/200702064229.jpg |
| 장비위치주소 | 한국표준과학연구원 202동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-1992-10-028506 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/cloud/resvEq/read/Z-NTIS-0016737?cloudId=200702080243 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |