| 시설장비 설명 |
투과전자현미경은 광학현미경과 그 원리가 비슷함. 전자현미경에서의 광원은 높은 진공상태에서 고속으로 가속되는 전자선임. 전자선이 표본을 투과하여 일련의 전기자기장 또는 정전기장을 거쳐 형광판이나 사진플름에 추점을 맞추워 투사됨. 투과전자현미경은 전자가 시료에 입사되어 상호작용을 한 후 시료를 통과하여 투과빔과 회절빔이 나올 때, 빔의 특정부분을 이용하여 명시야상(bright field image), 암시야상(dark field image), 회절도형(diffraction pattern)등을 얻을 수 있는 장비임. 이것은 약 150만 배율까지를 직접 볼 수 있으며 일반적은 결정 결함구조를 관찰하는데 유용함. 암시야상은 식출물 등의 늑정한 부분이다 결함으로부터 회절된 빔만을 사용하여 얻는 영상이므로 시료 내에 여러 가지 석출물이 존재하는 경우 각각 석출물을 구분하여 영상을 얻을 수 있고, 특정 결함을 선택적으로 관찰할 수 있음. 또한 중앙부분의 투과된 빔과 회절된 빔을 함께 사용하여 얻어지는 고분해능상을 이용하여 격자결함 주위의 원자배열을 밝혀낼 수 있음 |
