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장비 및 시설 기본정보

전자선 고진공 증착장치

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 ULVAC
모델명 EBX-1000
장비사양
취득일자 2002-07-11
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C504
표준분류명 시험·검사장비
시설장비 설명 MEMS 구조물을 제작하는 필수적인 공정장비임.
전자들이 갖는 운동에너지가 국부적으로 섭씨 3000도가 넘는 높은 열을 낼 수 있음.
증발 압력이 낮은 물질도 열 증착법에 비해 상대적으로 쉽게 증발시킬 수 있는 특징을 갖고 있는 MEMS공정에 사용되는 전자선 고진공 증착 장치임.
Au, Pt, Al, Ti, C등과 같은 물질을 Electron Beam을 이용하여 박막을 wafer상에 증착할 수 있는 장비임.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/IK6IdDGSSfNEwUzPVJ1H_w600.jpg
장비위치주소 KIST L6122호
NFEC 등록번호 NFEC-2002-08-040591
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-KIST_Fab-00021
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)