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장비 및 시설 기본정보
펄스플라즈마이온질화시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 제4기한국 |
| 모델명 | JSPNS-700 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2004-11-09 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 광주테크노파크 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C600 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | CVD 표면처리1. Chamber 2. Vacuum system 3. 가스공급장치 4. Plasma power supply 5. 제어 및 기록 장치 Power : 80KW(최대펄스전압 : 800V 전류 : 100A) 주파수 : 5~16KHz 유효작업공간 : Φ600*Φ700 최대장입량 : 500kg (Jig포함) 최대작업온 도 : 650℃ 최대진공도 : 1*10-³torr 사용가스 : N₂H₂ArCH₄(4종) Mass Flow Control : 6Ch by PLC부품경질피막 처리 기계부품 이온질화처리 내마모성 개선 부품/금형 표면처리 공정개발 금형강 SUS 등 플라즈마 이온질화처리 일반기계부품 내마모성 개선을 위한 플라즈마이온질화처리 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/DFD23946EEDF0B0849256FA8003B97E3.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 대촌동 광주테크노파크 958-3 (재)광주테크노파크 생산동 1층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-012005 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0002328 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |