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플라즈마 박막성장장비

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보유기관명	포항공과대학교
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	○ 플라즈마 박막성장장비 ○ PECVD ○ 웨이퍼 크기 : 4인치 또는 6인치 - 기판 가열용 히터 : 최대 온도 500℃ - Loadlock chamber : Stand-alone type - 최저 진공도 · Process chamber : ≤ 7 × 10 Torr · Loadlock chamber : ≤ 5 × 10 Torr - 진공 펌프 · Process chamber : TMP+Rotary pump · Load-l 4인치 또는 6인치 - 기판 가열용 히터 : 최대 온도 500℃ - Loadlock chamber : Stand-alone type - 최저 진공도 · Process chamber : ≤ 7 × 10 Torr · Loadlock chamber : ≤ 5 × 10 Torr - 진공 펌프 · Process chamber : TMP+Rotary pump · Load-l○ 활동분야 및 용도 : Etching 장비 ○ 작동 시 유의사항 : TMP 정지시 쿨링 상태 지속적 확인 필요 ○ 테크니션 숙련도 : 상 ○ 유지보수 : 필요없음 ○ 정상작동여부 : 이상 무 ○ 수리기관: ULTECH
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/7A27B5311E0FAC5A4925700A0003D5BD.jpg
장비위치주소	나노소자공정실(LG동110호-클린룸)
NFEC 등록번호	NFEC-2007-10-011989
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0002322
첨부파일

기업조회