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클러스터형 실리콘막 에피증착 장비

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보유기관명	한국생산기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C500
표준분류명	시험·검사장비
시설장비 설명	본 장비는 태양광 발전용 기판을 제작하기 위한 Si Epitaxy Growth 공정을 진공상태에서 연속적으로 진행할 수 있도록 구성 되어 있음. Plasma Treatment를 이용하여 Substrate의 산화막을 제거할 수 있는 Loadlock & Plasma Treatment Chamber, Substrate를 각 Chamber로 이송 할 수 있는 Transfer Chamber, 플라즈마를 이용하여 박막을 증착 할 수 있는 Sputtering Chamber 및 고온을 이용하여 Substrate를 Annealing 할 수 있는 Rapid Thermal (RTP) Chamber로 구성됨.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/YOC37mHX6djFcuk1VtEV_w600.jpg
장비위치주소	호남권지역본부
NFEC 등록번호	NFEC-2011-12-151899
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-kitech-00100
첨부파일

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