| 보유기관명 |
경북대학교 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
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| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
플라즈마를 이용한 금속막(Al Cr) 건식 식각공정 수행식각물질:Al Ti TiN W - Wafer:4~6인치 - single / uniformity:~5% - Process Chamber : Rie process chamber with single viewport & Blanked KF40 port at rear optical emission EFD - Power supplies & plasma sources : RF Generator limited to 300W & airvane capacitor automatch uinte for RIE - Vacuum Measurement : 1 Torr capacittance manometer and active penning gauge - Base Unite : System console with controller & PC2000 system for etching + manuals on CD실리콘소자제작에서의 다양한 금속막의 건식식각 |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201404/.thumb/20140404143435444.jpg |
| 장비위치주소 |
대구 북구 산격3동 경북대학교 1370 경북대학교 반도체연구동 지하1층 B107 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2007-07-002085 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0000430 |
| 첨부파일 |
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