| 저자(한글) |
LI, Zhi-zhen,LIU, Dong-huan,ZHAO, Shi-wei,JIANG, Chuang-dao,SHI, Lei |
| 초록 |
본 논문은 강한 빛으로 유도한 광저해 및 그 발생 메커니즘을 심층 해석하고자, 호우성 식물(ombrophyte)인 옥잠화(Hosta spp.)를 재료로, 그 광저해 발생 법칙 및 환경 내 강한 빛과의 관계를 연구하였다. 연구 결과, 자연광과 차광 조건에서, 옥잠화 잎은 발육과정에 강한 빛과 약한 빛에 적응하는 형태적 특성을 형성하였다. 차광 처리에 비해, 강한 빛에서 생장한 옥잠화의 광합성률과 엽록소 함량이 비교적 낮았으나, 2가지 처리에 의한 잎의 최대 광화학적 효율의 차이는 아주 작았다. 이는 강한 빛에서 식물체가 정상적으로 생장할 수 있으며, 광합성 기관에 심각한 광저해 현상이 발생하지 않는다는 것을 증명한다. 그늘진 곳에서 생장한 식물체를 빛이 있는 곳으로 옮겼을 때, 광합성률과 최대 광화학적 효율은 급속하게 감소하였다. 형광 유도 동역학 곡선에는 뚜렷한 변화가 발생하였으며, 광화학계II의 공여체와 수용체 측의 형광 생산량의 변화 폭은 각각 24.3%, 34.2%였다. 이는 약한 빛에서 강한 빛으로 옮겨진 후, 옥잠화의 광화학계II에 회복 불가능한 불활성이 발생하며, 수용체 측이 받은 손상은 공여체보다 더 심각하다는 것을 설명한다. 그러므로 강한 빛의 강도가 급격하게 향상되고 옥잠화의 생장환경에 필요한 강한 빛의 강도를 초과할 때, 광합성 기관에 심각한 광저해가 발생할 수 있었다. 해당 연구는 빛 환경에 적응하는 식물의 전략 및 호우성 식물의 최적 배양을 이해하는데 중요한 의미가 있다. |
