| 저자(한글) |
TIAN, Ye,LIU, Da-bo,LUO, Fei,QI, Hong-fei,LIU, Yong,CHENG, Bo,TENG, Le-jin |
| 초록 |
마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 방법을 사용하여 PbSe 박막(film)을 제조하고 제작한 부식액으로 서로 다른 시간의 표면 처리를 진행을 통하여 서로 다른 표면 형태의 박막 구조를 얻었다. 주사 전자 현미경(SEM, scanning electron microscope), X선 회절 장치(XRD), 자외선-가시광선 분광광도계(UV-Vis)를 이용하여 처리를 진행한 PbSe 박막의 표면 형태, 결정체 구조 및 광학 성능에 대해 특성화를 진행하는 동시에 박막의 광전도(photoconduction) 성능에 대해 테스트를 진행하였다. 그 결과, 박막은 이러한 공법 처리를 거쳐 표면은 일련의 나노 광 트래핑 구조(nano light-trapping structure)를 형성하고 서로 다른 정도로 산화(oxidation)되었다. 서로 다른 부식 시간 조건에서 박막의 광전도 성능은 모두 뚜렷하게 향상되고 이중 3h 동안 부식 처리를 거친 박막의 광전도 성능이 가장 높게 향상되었다. 해당 방법은 후속 열처리를 진행할 필요가 없고 간단하고 효율성이 높은 민감도 개질(sensitized modification) 수단이 된다. |
