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논문 기본정보

고순도 용제 회수 시스템의 공정 조건 탐색을 위한 AMESim 모델 개발

논문 개요

기관명, 저널명, ISSN, ISBN 으로 구성된 논문 개요 표입니다.
기관명 NDSL
저널명 반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor display technology
ISSN 1738-2270,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

저자, 소속기관, 출판인, 간행물 번호, 발행연도, 초록, 원문UR, 첨부파일 순으로 구성된 논문저자 및 소속기관 정보표입니다
저자(한글) 김대현,주강우,김광선
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2015-01-01
초록 As NMP (N-Methyl-2pyrrolidone) is becoming important in many fields, the demand for it is also rising rapidly. With its chemical property of high boiling point, low vapor pressure and high water solubility, it is easy to recover it after processing. Therefore, it is increasingly needed to develop a system that effectively recovers NMP solvent. The study produced a system modeling using AMESim software before developing high purity solvent recovery (HPSR) system to recover NMP solvent. Then, it verified reliability by comparing the simulation model with the test result.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO201506363291283
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류,DDC 분류,주제어 (키워드) 순으로 구성된 추가정보표입니다
과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) Lithium-ion Battery,Battery Pack,Green Energy,Numerical Analysis