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논문 기본정보

박막트랜지스터의 병렬형 가역과 비가역 문턱전압 이동에 대한 모델링

논문 개요

기관명, 저널명, ISSN, ISBN 으로 구성된 논문 개요 표입니다.
기관명 NDSL
저널명 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers
ISSN 1226-7945,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

저자, 소속기관, 출판인, 간행물 번호, 발행연도, 초록, 원문UR, 첨부파일 순으로 구성된 논문저자 및 소속기관 정보표입니다
저자(한글)
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2016-01-01
초록 Threshold voltage shift has been observed from many thin-film transistors (TFTs) and the time evolution of the shift can be modeled as the stretched-exponential and -hyperbola function. These analytic models are derived from the kinetic equation for defect-creation or charge-trapping and the equation consists of only reversible reactions. In reality TFT's a shift is permanent due to an irreversible reaction and, as a result, it is reasonable to consider that both reversible and irreversible reactions exist in a TFT. In this paper the case when both reactions exist in parallel and make a combined threshold voltage shift is modeled and simulated. The results show that a combined threshold voltage shift observed from a TFT may agrees with the analytic models and, thus, the analytic models don't guarantee whether the cause of the shift is defection-creation or charge-trapping.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO201622341962131
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류,DDC 분류,주제어 (키워드) 순으로 구성된 추가정보표입니다
과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) Threshold voltage shift,Thin-film transistor,Kinetic equation