듀얼 패스 스캐닝
기관명 | NDSL |
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출원인 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. |
출원번호 | 10-2016-7017461 |
출원일자 | 2016-06-29 |
공개번호 | 20160714 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 복수의 하전 입자 빔렛들을 사용하여 웨이퍼를 노출하기 위한 방법. 방법은 빔렛들 사이에서 비-기능 빔렛들을 식별하는 단계, 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위해 빔렛들의 제 1 서브세트를 할당하는 단계 - 제 1 서브세트는 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 빔렛들의 제 1 서브세트를 사용하는 웨이퍼의 제 1 부분을 노출하기 위한 제 1 스캔을 수행하는 단계, 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 빔렛들의 제 2 서브세트를 할당하는 단계 - 제 2 서브세트는 또한 식별된 비-기능 빔렛들을 제외함-, 및 빔렛들의 제 2 서브세트를 사용하여 웨이퍼의 제 2 부분을 노출하기 위한 제 2 스캔을 수행하는 단계를 포함하고, 웨이퍼의 제 1 및 제 2 부분들은 겹치지 않고, 함께 노출될 웨이퍼의 완전한 영역을 포함한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167017461 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01J-037/317,H01L-021/027,B82Y-010/00,B82Y-040/00 |
주제어 (키워드) |