노광 장치 및 노광 방법, 디바이스 제조 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 가부시키가이샤 니콘 |
출원번호 | 10-2016-7009409 |
출원일자 | 2016-04-08 |
공개번호 | 20160428 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 노광 장치 (EX) 는, 기판 (P) 을 유지하여 이동 가능한 기판 스테이지 (PST) 와, 기판 스테이지 (PST) 에 유지된 기판 (P) 상의 얼라인먼트 마크 (1) 를 검출하는 것과 함께, 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (PFM) 를 검출하는 기판 얼라인먼트계 (5) 와, 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (MFM) 를 투영 광학계 (PL) 를 통해서 검출하는 마스크 얼라인먼트계 (6) 를 구비한다.기판 얼라인먼트계 (5) 를 사용하여 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (PFM) 를 액체 없이 검출하는 것과 함께, 마스크 얼라인먼트계 (6) 를 사용하여 기판 스테이지 (PST) 에 형성된 기준 마크 (MFM) 를 투영 광학계 (PL) 와 액체를 통해서 검출하여, 기판 얼라인먼트계 (5) 의 검출 기준 위치와 패턴 이미지의 투영 위치와의 위치 관계를 구한다. 액침 노광에 있어서 얼라인먼트 처리를 정확하게 실시할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167009409 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | G03F-007/20,G03F-009/00 |
주제어 (키워드) |