박막 형성 방법 및 박막 형성 장치
기관명 | NDSL |
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출원인 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 |
출원번호 | 10-2016-0056765 |
출원일자 | 2016-05-10 |
공개번호 | 20160519 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명은 양호한 특성을 갖는 박막을 형성할 수 있는 박막 형성 방법 및 박막 형성 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 박막 형성 방법은, 제1 원료 가스와 제2 원료 가스를 반응실 내에 공급하는 제1 공정과, 제1 원료 가스의 공급을 정지하고, 제2 원료 가스를 반응실 내에 공급하고, 반응실 내의 압력을 제1 공정에서의 압력과 비교해서 높게 하는 제2 공정을 구비하고, 제1 공정과 제2 공정을 교대로 복수회 반복함으로써, 반응실 내에 수용된 피처리체에 박막을 형성한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160056765 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/02,C23C-016/40,C23C-016/455,C23C-016/52,H01L-021/285 |
주제어 (키워드) |