| 기업공감원스톱서비스

포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	호야 가부시키가이샤
출원번호	10-2017-0129436
출원일자	2017-10-11
공개번호	20171026
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은, 표시 장치 제조용 마스크의 노광 환경에 유리하게 적합하고, 미세한 패턴을 안정적으로 전사할 수 있는 우수한 포토마스크 및 그 제조 방법을 얻을 수 있다.투명 기판 상에 형성된 전사용 패턴을 구비하는 포토마스크로서, 상기 전사용 패턴은, 직경 W1(㎛)의 주 패턴과, 상기 주 패턴의 근방에 배치된, 폭 d(㎛)의 보조 패턴과, 상기 주 패턴 및 상기 보조 패턴이 형성되는 이외의 영역에 배치된 저투광부를 갖고, 상기 주 패턴 및 상기 보조 패턴을 투과하는 대표 파장의 위상차가 대략 180도이며, 직경 W1, 폭 d, 상기 보조 패턴의 투과율 T1(%), 상기 저투광부의 투과율 T3(%) 및 상기 주 패턴의 중심과 상기 보조 패턴의 폭 방향의 중심과의 거리 P(㎛)가 소정의 관계를 갖는 포토마스크이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020170129436
첨부파일

기업조회