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포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 블랭크 및 표시 장치의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	호야 가부시키가이샤
출원번호	10-2017-0129263
출원일자	2017-10-11
공개번호	20171026
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	표시 장치 제조용 마스크의 노광 환경에 유리하게 적합하고, 미세한 패턴을 안정적으로 전사할 수 있는 우수한 포토마스크 및 그 제조 방법을 얻는다. 투명 기판 상에 성막된 소정의 반투광막 및 소정의 저투광막을 각각 패터닝함으로써 형성된 전사용 패턴을 구비하는 포토마스크로서, 상기 전사용 패턴은, 상기 투명 기판이 노출되는 투광부를 포함하는 직경 W1(㎛)의 주패턴과, 상기 주패턴의 근방에 배치되고, 상기 투명 기판 상에 상기 반투광막이 형성된 반투광부를 포함하는 폭 d(㎛)의 보조 패턴과, 상기 전사용 패턴의, 상기 주패턴 및 상기 보조 패턴이 형성되는 이외의 영역에 배치되고, 상기 투명 기판 상에 적어도 상기 저투광막이 형성된 저투광부를 갖고, 상기 주패턴의 직경 W1, 상기 반투광부의 광투과율 T1 및 상기 반투광부의 폭 d가 소정의 관계를 갖는 포토마스크이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020170129263
첨부파일

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