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Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤
출원번호	10-2015-7002775
출원일자	2015-02-02
공개번호	20150312
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	Ga 가 22 at% 이상 29 at% 이하, 잔부가 Cu 및 불가피적 불순물로 이루어지는 용해·주조된 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃으로서, Cu 와 Ga 의 금속 간 화합물층인 ζ 상과 γ 상의 혼상으로 이루어지는 공석 조직을 갖고, 상기 γ 상의 직경을 D ㎛, Ga 농도를 C at% 로 한 경우에 있어서, D≤7 × C - 150 의 관계식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃. 주조 조직의 스퍼터링 타깃은 소결체 타깃과 비교하여 산소 등의 가스 성분을 감소시킬 수 있다는 이점이 있다. 이 주조 조직을 갖는 스퍼터링 타깃을 일정한 냉각 속도의 응고 조건에서 연속적으로 고화시킴으로써, 산소를 저감시키고, 또한 편석상을 분석시킨 양질의 주조 조직의 타깃을 얻을 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157002775
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