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포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 및 표시 장치의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	호야 가부시키가이샤
출원번호	10-2016-0075349
출원일자	2016-06-16
공개번호	20160630
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명의 과제는, 치수 정밀도가 높은 전사용 패턴을 형성할 수 있는 포토마스크의 제조 방법을 얻는 것이다. 투명 기판 상에, 광학막을 패터닝하여 얻어진 전사용 패턴을 구비하는 포토마스크의 제조 방법으로서, 포토마스크 기판을 준비하는 공정과, 묘화 공정과, 레지스트 패턴 형성 공정과, 광학막 패터닝 공정을 갖고, 상기 묘화 공정에 있어서는 상기 전사용 패턴을 형성하기 위한 전사용 패턴 데이터와, 모니터 패턴을 형성하기 위한 모니터 패턴 데이터를 포함하는 패턴 데이터를 사용하여 묘화를 행하고, 상기 광학막 패터닝 공정은, 상기 광학막에 대해, 소정 시간의 에칭을 실시하는, 제1 에칭과, 상기 모니터 패턴의 치수 측정과, 상기 치수 측정에 의해 얻어진 상기 모니터 패턴의 치수에 기초하여, 상기 광학막에 추가의 에칭을 실시하는, 제2 에칭을 포함하는, 포토마스크의 제조 방법이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020160075349
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