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특허/실용신안

에픽택셜 리프트 오프 공정을 위한 열적 보조 냉간 용접 본딩

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시간
출원번호 10-2016-7015386
출원일자 2016-06-09
공개번호 20160721
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명에는 박막 광전자 디바이스를 조립하는 공정이 개시된다. 이 공정은 성장 표면을 갖는 웨이퍼, 희생 층 및 디바이스 영역을 포함하는 성장 구조체를 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 공정은 호스트 기판을 제공하는 단계, 및 디바이스 영역 상에 제1 금속 층을 침착시키는 단계와 호스트 기판 상에 제2 금속 층을 침착시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 공정은 본딩 온도에서 제1 금속 층 및 제2 금속 층을 함께 압착함으로써 제2 금속 층에 제1 금속 층을 본딩하는 단계로서, 여기서 본딩 온도는 실온 이상 및 호스트 기판의 유리 전이 온도와 호스트 기판의 용융 온도 중 더 낮은 것 이하인 단계를 더 포함할 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015386
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-031/18,H01L-031/0232,H01L-031/0445
주제어 (키워드)