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특허/실용신안

그래핀 나노리본들을 위한 정제 프로세스

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 바스프 에스이
출원번호 10-2016-7008556
출원일자 2016-03-31
공개번호 20160510
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 그래핀 나노리본들을 정제하기 위한 프로세스에 관한 것으로, 상기 프로세스는, 그래핀 나노리본들 (GNR1) 및 하나 이상의 오염 물질들을 포함하는 조성물을 분산제를 포함하는 액체 매질과 접촉시키고 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물을 획득하기 위해서 액체 매질에 그래핀 나노리본들 (GNR1) 을 분산시키는 단계, 및 하나 이상의 오염 물질들을 적어도 부분적으로 제거하기 위해서 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물에 분리 처리를 부여하여서, 정제된 그래핀 나노리본들 (GNR1) 의 액체 분산물을 획득하는 단계를 포함한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008556
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C01B-031/04,B01J-019/10,H01L-029/06,H01L-029/16,H01L-029/66,H01L-029/778
주제어 (키워드)