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하나 이상의 기판을 처리하기 위한 플라즈마 처리 장치 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	만쯔 아게
출원번호	10-2015-7008720
출원일자	2015-04-03
공개번호	20150521
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 하나 이상의 기판을 처리하기 위한 방법 및 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로서, 이 플라즈마 처리 장치는 플라즈마 처리 챔버(12)를 구비하고, 이 플라즈마 처리 챔버 내에서는 기판(1)을 처리하기 위해 제공되는 플라즈마(14)가 발생할 수 있으며; 플라즈마 처리 챔버(12) 내로 합류하고 한 가지 이상의 공정 가스(15)를 공급하기 위한 하나 이상의 가스 유입구(16)를 구비하며; 진공 펌프 장치(18)를 구비하고, 이 진공 펌프 장치는 가스 배출구(20)를 통해서 플라즈마 처리 챔버(12)에 유동 결합 방식으로 연결되어 있으며, 2Pa 내지 50Pa의 압력 범위에서 분자 질소(N 2 )를 기준으로 하고 플라즈마 처리 챔버(12)의 내부 표면적에 맞추어 표준화된, 플라즈마 처리 챔버(12)의 m 2 내부 표면적당 적어도 1500m 3 /h의 유효 흡인 능력을 갖는다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157008720
첨부파일

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