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특허/실용신안

동적 전극 플라즈마 시스템

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
출원번호 10-2016-7008752
출원일자 2016-04-01
공개번호 20160519
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 기판을 프로세싱하기 위한 시스템은 그 안에 플라즈마를 생성하기 위한 플라즈마 챔버를 포함한다. 시스템은 기판을 하우징하기 위한 프로세스 챔버를 또한 포함하며, 여기에서 프로세스 챔버는 플라즈마 챔버에 인접한다. 시스템은 또한 플라즈마 챔버와 기판 사이에 배치된 회전가능 추출 전극을 포함하며, 여기에서 회전가능 추출 전극은 플라즈마로부터 이온 빔을 추출하도록 구성되고, 추출 전극 축에 대한 회전에 의해 기판의 움직임 없이 기판에 걸쳐 이온 빔을 스캐닝하도록 구성된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008752
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추가정보

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