플라즈마 화학기상 장치
기관명 | NDSL |
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출원인 | (주)에스엔텍 |
출원번호 | 10-2014-0149767 |
출원일자 | 2014-10-31 |
공개번호 | 20160519 |
공개일자 | 2016-06-21 |
등록번호 | 10-1632397-0000 |
등록일자 | 2016-06-15 |
권리구분 | KPTN |
초록 | 본 발명은 플라즈마 화학기상 장치에 관한 것으로서, 기재가 위치하는 공정영역을 갖는 진공챔버; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 공정가스를 공급하는 가스공급부; 상기 진공챔버 내에 설치되어 상기 공정영역에 플라즈마를 형성하며, 외주면에 표면거칠기를 갖는 적어도 하나의 전극유닛; 상기 전극유닛에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140149767 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/205,H01L-021/02,H05H-001/46 |
주제어 (키워드) |