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검사 장치 및 방법, 리소그래피 장치, 리소그래피 처리 셀 및 디바이스 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
출원번호	10-2016-7002988
출원일자	2016-02-02
공개번호	20160311
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 웨이퍼의 격자와 같은 기판(W)의 타겟(30)의 특성을 결정한다.검사 장치는 높은 개구수 대물 렌즈(L3)의 퓨필 평면에 2 이상의 조명 빔들(716, 716', 716'', 716''')을 갖는 조명 소스(702, 710)를 갖는다.기판 및 타겟은 기판의 평면에 대하여 상이한 입사각으로부터 대물 렌즈를 통해 조명된다.4 개의 조명 빔들의 경우, 쿼드 웨지 광학 디바이스(QW)가 기판으로부터 산란된 방사선의 회절 차수들을 별개로 전향하기 위해 사용되며, 2 이상의 조명 빔들로부터 회절 차수들을 분리시킨다.예를 들어, 4 개의 회절 차수들이 4 개의 입사 방향에 대해 분리된다.다중모드 섬유(MF)의 캡처 후, 파장의 함수로서 별개로 전향된 0차 회절 차수들의 세기를 측정하기 위해 분광계들(S1 내지 S4)이 사용된다.이후, 이는 타겟의 특성을 결정하는 데 사용될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167002988
첨부파일

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