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아노다이징으로 표면 처리된 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록

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기관명	NDSL
출원인	(주)뉴젠텍
출원번호	10-2014-0025304
출원일자	2014-03-04
공개번호	20150917
공개일자	2016-02-03
등록번호	10-1591239-0000
등록일자	2016-01-28
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 아노다이징으로 표면 처리된 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 서브 블록을 형성하여 경로를 가공하고 그리고 아노다이징 공정으로 표면의 물리적 특성이 형성되도록 하는 아노다이징으로 표면 처리된 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법 및 그에 의한 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다. 원격 플라즈마 소스 블록의 가공 방법은 서로 결합이 되어 연결되는 내부 경로를 형성할 수 있는 서브 블록을 성형하는 단계; 내부 경로를 형성하고 그리고 내부 경로의 꺾인 부위에서 곡면을 가공하는 단계; 상기 곡면이 가공된 서브 블록의 표면을 황산 베이스에서 표면 처리를 하는 단계; 및 상기 표면 처리가 된 서브 블록을 결합시키는 단계를 포함한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140025304
첨부파일

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