접촉 구조물 및 그 형성방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 |
출원번호 | 10-2018-0002465 |
출원일자 | 2018-01-08 |
공개번호 | 20180125 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 접촉 구조물들 및 접촉 구조물들을 형성하는 방법이 본 개시에 의해 구상가능하다.구조물은 기판 위의 유전체층, 접착층, 실리사이드, 배리어층, 및 도전성 물질을 포함한다.유전체층은 기판의 표면에 이르는 개구를 갖는다.접착층은 개구의 측벽들을 따라 있다.실리사이드는 기판의 표면 상에 있다.배리어층은 접착층과 실리사이드 상에 있고, 배리어층은 실리사이드와 직접 접한다.도전성 물질은 개구 내의 배리어층 상에 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020180002465 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/3205,H01L-021/768 |
주제어 (키워드) |