EUV 마스크 세정 시스템 및 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 |
출원번호 | 10-2018-0002313 |
출원일자 | 2018-01-08 |
공개번호 | 20180118 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 시스템은 포토마스크를 지지하도록 구성되고 그리고 상기 포토마스크의 제1 측부에 위치되는 브래킷; 메가소닉 주파수 및 파장의 기계적 진동을 포함하는 음향 에너지를 발생시키도록 구성되는 음향 에너지 발생기; 포토마스크의 제2 측부로 지향되는 음향적으로 자극된 유체 스트림을 발생시키기 위해, 상기 음향 에너지 발생기에 의해 발생된 음향 에너지가 유체 분배기에 의해 수용되도록, 음향 에너지 발생기에 결합되는 유체 분배기를 포함하며, 상기 포토마스크의 제1 측부는 포토마스크의 제2 측부와는 반대이고, 상기 제1 측부는 패턴을 포함한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020180002313 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-021/033,G03F-001/22,H01L-021/02,H01L-021/449,H01L-021/67 |
주제어 (키워드) |