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특허/실용신안

레티클 투과율 측정 방법, 투영 노광 장치 및 투영 노광 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 에스아이아이 세미컨덕터 가부시키가이샤
출원번호 10-2015-0134535
출원일자 2015-09-23
공개번호 20160414
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 초회 레티클을 사용할 때에, 실제로 레티클을 장치에 넣고, 비스듬하게 측정·랜덤 측정을 실시하는 것에 의해, 샘플링수를 늘리지 않아도 치우친 샘플링이 되는 위험성을 회피하여, 모집단인 레티클 전체의 레티클 투과율을 파악하는 것이 가능해진다. 또, 일반적으로 고정으로 되어 있는 계측 스폿 사이즈를 가변으로 하고, 이 계측 스폿 사이즈에 따른 입사 각도의 변경을 실시하는 것에 의해, 동일한 효과를 얻는 것도 가능해진다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150134535
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G01N-021/59,G03F-001/44,G03F-007/20,H01L-021/66
주제어 (키워드)