에픽택셜 리프트 오프 공정을 위한 열적 보조 냉간 용접 본딩
기관명 | NDSL |
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출원인 | 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시간 |
출원번호 | 10-2016-7015386 |
출원일자 | 2016-06-09 |
공개번호 | 20160721 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 본 발명에는 박막 광전자 디바이스를 조립하는 공정이 개시된다. 이 공정은 성장 표면을 갖는 웨이퍼, 희생 층 및 디바이스 영역을 포함하는 성장 구조체를 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 공정은 호스트 기판을 제공하는 단계, 및 디바이스 영역 상에 제1 금속 층을 침착시키는 단계와 호스트 기판 상에 제2 금속 층을 침착시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 공정은 본딩 온도에서 제1 금속 층 및 제2 금속 층을 함께 압착함으로써 제2 금속 층에 제1 금속 층을 본딩하는 단계로서, 여기서 본딩 온도는 실온 이상 및 호스트 기판의 유리 전이 온도와 호스트 기판의 용융 온도 중 더 낮은 것 이하인 단계를 더 포함할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167015386 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-031/18,H01L-031/0232,H01L-031/0445 |
주제어 (키워드) |