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특허/실용신안

원료 가스 공급 장치, 성막 장치, 원료 가스 공급 방법 및 기억 매체

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
출원번호 10-2014-0008491
출원일자 2014-01-23
공개번호 20140814
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은, 응답성이나 원료 가스의 유량 안정성이 우수한 원료 가스 공급 장치 등을 제공한다.본 발명의 일 실시예에 따른 원료 가스 공급 장치는, 기판에 대한 성막을 행하는 성막 장치에 사용되는 원료 가스 공급 장치로서, 액체 또는 고체의 원료를 수용한 원료 용기와, 상기 원료 용기 내의 기상 영역에 캐리어 가스를 공급하기 위한 캐리어 가스 공급부와, 상기 원료 용기로부터, 기화한 원료를 포함하는 원료 가스를 상기 성막 장치에 공급하기 위한 원료 가스 공급로와, 상기 원료 가스 공급로를 흐르는 상기 기화한 원료의 유량을 측정하는 유량 측정부와, 상기 원료 용기 내의 압력을 조절하는 압력 조절부와, 상기 유량 측정부에서 측정한 상기 기화한 원료의 유량 측정값과, 미리 설정된 목표값을 비교하고, 상기 유량 측정값이 상기 목표값보다도 높은 경우에는, 상기 원료 용기 내의 압력을 상승시키고, 상기 유량 측정값이 상기 목표값보다도 낮은 경우에는, 상기 원료 용기 내의 압력을 저하시키도록 상기 압력 조절부를 제어하는 제어부를 구비한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140008491
첨부파일

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