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특허/실용신안

배치 타입 화학기상증착 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 (주)에스엔텍
출원번호 10-2013-0106761
출원일자 2013-09-05
공개번호 20150319
공개일자 2015-09-24
등록번호 10-1555244-0000
등록일자 2015-09-17
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 배치 타입 화학기상증착 장치에 관한 것으로서, 진공 공간을 형성하는 진공챔버; 상기 진공챔버 내부의 진공도를 조절하는 진공조절부; 상기 진공챔버 내부에 성막 가스를 공급하는 가스공급부; 성막 대상인 기재를 상기 진공챔버 내부에서 공전 및 자전 가능하게 거치시키는 공자전거치유닛; 상기 기재의 공전 및 자전 영역 인접하게 배치되는 중공관체의 전극과, 상기 전극 내부에 마련되어 상기 기재의 공자전 영역을 향하는 자기장을 발생하는 자기장 발생부재를 갖는 적어도 하나의 전극유닛; 상기 전극유닛으로 전원을 인가하는 전원공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 플라즈마 화학기상증착법을 이용하여 증착 대상인 기재의 표면에 효과적으로 플라즈마를 밀집시킴으로써, 증착 품질 및 증착 속도를 현격하게 향상시킬 수 있는 배치 타입 화학기상증착 장치가 제공된다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020130106761
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C23C-016/44,C23C-016/50
주제어 (키워드)