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특허/실용신안

하전입자선 장치, 시료 화상 취득 방법, 및 프로그램 기록 매체

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
출원번호 10-2016-7013661
출원일자 2016-05-24
공개번호 20160707
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명의 하전입자선 장치는, 1차 하전입자선이 시료에 도달할 때까지 산란됨으로써 1차 하전입자선의 스폿 형상에 생기는 영향을, 검출기의 신호로부터 제거하는 데이터 처리부를 구비한다.예를 들면 비진공 분위기에 있는 시료(6)를 전자현미경으로 관찰할 경우에, 1차 하전입자선이 격막(10)에 의해, 또는 비진공 공간(12)에 존재하는 가스에 의해 산란됨으로써 상기 1차 하전입자선의 스폿 형상에 생기는 영향을, 검출기에서 취득된 신호로부터 제거한다.이에 따라 간편하게 양질의 화상을 얻을 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167013661
첨부파일

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