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패턴 평가 장치 및 패턴 평가 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
출원번호	10-2014-7032298
출원일자	2014-11-18
공개번호	20150109
공개일자	2016-05-20
등록번호	10-1623135-0000
등록일자	2016-05-16
권리구분	KPTN
초록	본 발명은, 주사 하전 입자 현미경을 사용해서 회로의 패턴을 평가할 때의, 촬상 영역의 설정 방법에 관한 것이다. 실제 화상 또는 설계 데이터 위에서 평가해야 하는 회로 패턴을 결정하며, 상기 평가해야 하는 회로 패턴의 일부를 시야에 포함하도록 복수개의 촬상 영역을 설정하고, 상기 복수개의 촬상 영역의 화상을 취득한다.촬상 영역을 설정할 때에는, 인접하는 제 1 화상과 제 2 화상 간의 거리 허용값을 설정하고, 상기 거리 허용값을 가능한 한 만족시키도록 촬상 영역의 위치를 최적화한다.이에 따라, 주사 하전 입자 현미경의 시야에 들어가지 않는 광역의 검사 영역의 화상 취득의 스루풋(throughput)을 향상시키는 것, 전기 불량의 원인이 될 수 있는 검사 영역의 결정을 효율적으로 행하는 것이 가능하게 되었다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020147032298
첨부파일

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