| 초록 |
본 발명은 챔버 바디와 격리 창을 포함하는 반도체 처리를 위한 챔버를 제공하고, 상기 챔버 바디는 통형 구조이며, 개구 단인 상단을 갖고, 상기 격리 창은 상기 챔버 바디의 상기 개구 단에 제공되며, 상기 챔버를 밀봉하기 위해 사용되고, 상기 챔버는 상기 챔버 바디의 상기 개구 단에 상기 격리 창을 고정하기 위해 사용되고, 서로 연결되는 제1 고정부와 제2 고정부를 포함하는 격리 창 고정 구조체를 더 포함하고, 상기 제1 고정부는 상기 격리 창의 상면의 가장자리 영역에 고정적으로 연결되고, 상기 제2 고정부는 상기 챔버 바디에 고정적으로 연결된다. 본 발명은 격리 창을 챔버 바디에 확실하게 고정하기 때문에, 수직 및 수평 방향의 격리 창의 변위는 제한될 수 있다. 그리고, 변위 때문에 챔버 바디와의 충돌에 의해 발생된 격리 창의 파손에 대한 문제는 방지될 수 있다. 한편, 한편, 격리 창(20)은 종래의 수지 패드 없이 격리 창 고정 구조체(10)에 고정되고, 지지될 수 있다. 따라서, 가열된 수지 패드의 변형 때문에, 격리 창이 그것에 적용된 불균일한 힘에 의해 파손되기 쉬운 문제가 방지될 수 있다. |
