피에칭층을 에칭하는 방법
기관명 | NDSL |
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출원인 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 |
출원번호 | 10-2016-7008370 |
출원일자 | 2016-03-29 |
공개번호 | 20160728 |
공개일자 | 0000-00-00 |
등록번호 | |
등록일자 | 0000-00-00 |
권리구분 | KUPA |
초록 | 피처리체의 피에칭층을 에칭하는 방법이 제공된다. 피처리체는 피에칭층 위에 마스크를 가지고 있다. 피에칭층 및 마스크는 아르곤의 원자 번호보다도 큰 원자 번호를 가지는 희가스의 플라즈마에 의한 에칭 효율이, 아르곤 가스의 플라즈마에 의한 에칭 효율보다도 높은 재료로 구성되어 있다. 또, 마스크는 피에칭층의 융점보다도 높은 융점을 가지는 재료로 구성되어 있다. 이와 같은 피처리체에 대해서, 본 방법은 아르곤의 원자 번호보다도 큰 원자 번호를 가지는 제1 희가스를 포함하는 제1 처리 가스의 플라즈마에 상기 피처리체를 노출하는 공정(a)과, 아르곤의 원자 번호보다도 작은 원자 번호를 가지는 제2 희가스를 포함하는 제2 처리 가스의 플라즈마에 상기 피처리체를 노출하는 공정(b)을 포함한다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167008370 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | H01L-043/12,H01L-021/02,H01L-021/3065,H01L-021/3213,H01L-043/08,H05H-001/46 |
주제어 (키워드) |