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특허/실용신안

박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 후지필름 가부시키가이샤
출원번호 10-2016-7014266
출원일자 2016-05-27
공개번호 20160630
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 기판 상에, 적어도 게이트 전극, 게이트 절연막, 활성층, 소스 전극, 및 드레인 전극이 형성되고, 활성층 상에 소스 전극 및 드레인 전극이 형성된 박막 트랜지스터이다. 활성층은, 아모르퍼스 산화물 반도체에 의해 구성되어 있다. 게이트 절연막 내에 존재하는 제 1 수분량은, 활성층에 존재하는 제 2 수분량보다 적다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167014266
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-029/786,H01L-029/49,H01L-029/51,H01L-029/66
주제어 (키워드)