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페놀도팜을 포함하는 세포 배양용 배지 조성물 및 이의 용도

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기관명	NDSL
출원인	서울대학교산학협력단
출원번호	10-2023-0035432
출원일자	2023-03-17
공개번호	20230330
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 세포의 항산화스트레스에 의한 세포사 및 효능 저하를 해결하기 위한 페놀도팜을 포함하는 세포 배양용 배지 조성물 및 이의 배양방법에 관한 것으로, 본 발명의 조성물은 산화스트레스에 의해 세포의 사멸을 억제하고 생존율을 증가시킬 뿐만 아니라 연골과 골세포로의 분화와 자가 재생 능력 등 세포의 기본적인 특징들을 향상 시킬 수 있을 뿐만 아니라, 기존 세포 치료제가 지니고 있는 노화 현상 및 생체이식 후 병소 내에서의 항산화스트레스에 의한 세포사 및 효능 저하 등의 잠재적인 문제점들을 해결할 수 있을 것으로 기대된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020230035432
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