기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

중합성 액정 조성물 및 당해 조성물을 사용해서 제작한 광학 이방체, 위상차막, 위상차 패터닝막

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 디아이씨 가부시끼가이샤
출원번호 10-2016-7017115
출원일자 2016-06-27
공개번호 20160811
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 도막 후, 가열, 또는 활성 에너지선을 조사해서 얻어지는 성막이 배향성이 우수하며, 헤이즈가 작은 중합성 액정 조성물을 제공하고, 아울러서, 당해 중합성 조성물을 사용한 투명성이 양호한 광학 이방체를 제공하는 것에 있다.구체적으로는, 본 발명은, 중합성 헤이즈개선제 및, 중합성 액정 화합물을 함유하는 중합성 액정 조성물을 제공한다.또한, 본 발명의 중합성 액정 조성물을 사용한 광학 이방체도 제공한다.본 발명의 중합성 액정 조성물을 사용함으로써, 투명성이 우수한 광학 이방체를 얻을 수 있으므로, 위상차막 등의 광학 재료의 용도에 유용하다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167017115
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C09K-019/30,C08F-220/30,G02B-005/30
주제어 (키워드)