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특히, 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치를 위한 거울

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기관명	NDSL
출원인	칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
출원번호	10-2016-7007654
출원일자	2016-03-23
공개번호	20160603
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 특히, 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치를 위한 거울에 관한 것이다.본 발명에 따른 거울(10)은 광학적 활성 표면(11)과, 거울 기판(12)과, 광학적 활성 표면(11) 상에 충돌하는 전자기 방사선을 반사하기 위한 반사 층 스택(21)과, 반사 층 스택(21)의 적층 방향으로 거울 기판(12)과 반사 층 스택(21) 사이에 연속적으로 배열되고 국부적으로 변화 가능한 변형을 생성하는 전기장이 가해질 수 있는 적어도 2개의 압전 층(16a, 16b, 16c)을 포함하고, 결정질 재료로 구성되는 적어도 1개의 중간 층(22a, 22b)이 상기 압전 층(16a, 16b, 16c) 사이에 배열되고, 중간 층(22a, 22b)은 이것이 반사 층 스택(21)의 적층 방향으로 중간 층(22a, 22b)에 인접한 압전 층(16a, 16b, 16c)의 영역 내에 존재하는 전기장을 실질적으로 영향을 받지 않는 상태로 남기는 방식으로 설계된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167007654
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